Большая битва за очень маленькие метры
США стремятся закрыть Китаю доступ к технологиям производства полупроводников — и для этого готовы открыто вмешаться в работу европейских компаний. Несмотря на это, микроэлектронная промышленность Китая заметно прогрессирует
Еще несколько лет назад спор вокруг оборудования для производства микросхем мог показаться узкоспециализированной темой для инженеров и производителей электроники. Сегодня это один из основных сюжетов технологического противостояния США и Китая. Полупроводники лежат в основе практически всей современной цифровой инфраструктуры — от смартфонов и автомобилей до дата-центров, искусственного интеллекта и военной техники. Поэтому контроль над их производством постепенно превратился из коммерческого вопроса в инструмент экономической и национальной безопасности.
Масштаб отрасли неумолимо растет. По данным World Semiconductor Trade Statistics (WSTS), в 2025 году глобальные продажи полупроводников достигли 795,6 млрд долларов, увеличившись на 26,2% с 630,5 млрд долларов в 2024 году. Основным драйвером роста стал компьютерный сегмент: его продажи выросли более чем на 60% на фоне инвестиций в дата-центры и инфраструктуру ИИ, при этом благодаря вложениям в оборону и инфраструктурные проекты на 15% увеличились заказы со стороны госструктур.
Неудивительно, что производство чипов сегодня рассматривается государствами как стратегическое вложение в будущее. Вопрос уже не только в том, кто сможет выпускать самые быстрые процессоры, но и в том, кто контролирует оборудование, материалы, программное обеспечение и компании, обеспечивающие их производство.
Однако место честной конкуренции давно заняли откровенно протекционистские меры: в апреле 2026 года в Конгрессе США представили двухпартийный проект закона о многостороннем согласовании контроля за технологиями в отношении оборудования (Multilateral Alignment of Technology Controls on Hardware, MATCH Act), предусматривающий ужесточение экспортного контроля в отношении литографических машин и другого оборудования и компонентов для производства полупроводников. «Соединенные Штаты не должны предоставлять Коммунистической партии Китая какой-либо доступ к технологиям, которые подпитывают их военные амбиции и ставят под угрозу национальную безопасность США», — заявил один из соавторов закона, лидер демократической фракции в сенате Чак Шумер. Новый законопроект делает попытку перекрыть ключевые отраслевые цепочки поставок для Китая, предусматривая открытое давление на европейские и японские компании.
Каковы же главные особенности новой «микроэлектронной дубинки» Штатов? Комментирует Владимир Поклад, директор управленческого консалтинга ГК «Деловой профиль»: «Прежние ограничения оперировали механизмом Entity List: в перечень вносились конкретные компании — Huawei, SMIC, YMTC, — и запрет касался именно поставок в их адрес. Китайские закупщики обходили это через подставные структуры и посредников. MATCH Act вводит понятие “подконтрольные объекты” (covered facilities) и распространяет запрет на любые предприятия на территории Китая, производящие чипы определенного уровня сложности».
Кроме того, предыдущие правила регулировали преимущественно продажу нового оборудования. MATCH Act (в первоначальной версии) впервые вводит прямой запрет на обслуживание, ремонт, калибровку, обновление прошивок и обучение персонала для уже установленных в Китае машин. Это принципиально: литограф без сервисного контракта и доступа к запчастям превращается в дорогостоящий металлолом в течение нескольких лет.
Наконец, по словам Владимира Поклада, раньше координация с Нидерландами и Японией (странами — производителями литографического оборудования) держалась на неформальных договоренностях, которые зависели от политической воли текущей администрации. MATCH Act устанавливает жесткий срок — 150 дней — для приведения национального законодательства союзников в соответствие с американскими нормами. Дипломатическая просьба превращается в юридический ультиматум.
Законопроект не прошел «на ура», нашел оппозицию в экспертной среде в самих США, получил ряд правок. По состоянию на середину прошлой недели документ все еще не дошел до голосования в палате представителей. Тем не менее перспектива его принятия уже вызвала изрядное напряжение в отношениях США с Нидерландами. Дело дошло до публичной пикировки высоких правительственных чиновников. Китай же за время обсуждения очередного недружественного для себя закона успел, если верить просочившейся в Reuters информации, успел завершить работу над прототипом собственной машины глубокой ультрафиолетовой литографии, что означает значительный шаг вперед на пути к производству самых передовых чипов.
Одна на весь мир
Если в мировой полупроводниковой отрасли искать одну компанию, на примере которой заметно, насколько хрупкой стала глобальная технологическая кооперация, то это будет нидерландская ASML. Компания не создает сами процессоры или микросхемы — она выпускает оборудование, на котором их производят.
Главный продукт компании — литографические установки. Они наносят на кремниевую пластину рисунок будущей микросхемы, причем делают это с точностью, измеряемой нанометрами. «В современной цепочке используются два ключевых режима фотолитографии — EUV (экстремальный ультрафиолет с длиной волны 13,5 нанометра) и DUV (глубокий ультрафиолет с длиной волны обычно 193 нанометра), обеспечивающие разные способы переноса рисунка микросхемы на кремниевую пластину с помощью света. Это принципиально разные технологии, применяемые для разных уровней топологии: EUV применяется для самых тонких и критичных слоев, а DUV остается основной рабочей технологией для большого числа производственных операций, в том числе в современных техпроцессах», — объясняет руководитель лаборатории проектирования специализированных интегральных микросхем НИЯУ МИФИ Эдуард Аткин.
Разница между технологиями важна для нынешнего конфликта. Поставки в Китай самой передовой технологии, EUV-машин, были изначально запрещены. Нынешний же законопроект распространяет запрет поставок и на DUV-оборудование.
Более того, ограничения предусматриваются и в отношении ремонта и обслуживания ранее поставленных DUV-машин. Согласно законопроекту, теперь каждый прецедент их сервисного обслуживания нидерландскими либо японскими компаниями будет требовать отдельного разрешения (лицензии) бюро промышленности и безопасности минторга США, главного регулятора американского экспортного контроля. И вот почему. «Если у чиповой фабрики есть DUV, у нее остается возможность масштабировать зрелые процессы, поддерживать объемы и постепенно двигаться дальше, — объясняет старший преподаватель кафедры электронных измерительных систем НИЯУ МИФИ Елена Коробкова. — Если же ограничить еще и сервис, ситуация резко усложняется, потому что без обслуживания, калибровки и расходников производственная линия быстро теряет стабильность. Итоговый эффект здесь не мгновенный — накопительный. Сначала вырастут сроки и издержки на поддержание парка оборудования, затем усложнится выход годной продукции, после подорожает вся технологическая цепочка. В итоге для отрасли это означает более дорогой и медленный путь к передовым техпроцессам».
На поле EUV-систем у ASML абсолютная монополия, тогда как среди установок DUV у компании есть конкуренты, прежде всего это японские Nikon и Canon. Однако и здесь позиции ASML чрезвычайно сильны: компания поставила в 2025 году 279 DUV-систем против 48 EUV-систем, а всего за год продала 535 систем литографии, метрологии и контроля. Выросла и капитализация компании: за 10 лет стоимость акций ASML подскочила почти в 15 раз с 98,25 до 1434,2 доллара (см. график 1).
Владимир Поклад объясняет уникальное положение компании на рынке: «ASML — единственный в мире производитель EUV-сканеров, без которых невозможно серийное производство чипов на технологических узлах ниже семи нанометров. Стоимость одной такой машины составляет от 200 до 400 миллионов долларов. Конкуренты — Nikon и Canon — предлагают системы предыдущих поколений и, по оценкам отраслевых аналитиков, не способны сократить разрыв в обозримой перспективе из-за колоссального отставания в инвестициях в НИОКР. В целом на рынке литографического оборудования доля ASML составляет около 90 процентов. На оборудовании компании производится 99 процентов всех полупроводников в мире».
При этом EUV не просто более современная версия DUV. Создание такой установки потребовало десятилетий исследований и кооперации огромного числа поставщиков. Внутри машины работают источник экстремального ультрафиолетового излучения, сверхточная оптика, вакуумная система, системы позиционирования и измерения, программное обеспечение и множество других компонентов. Заведующий отделом науки и инноваций ИМЭМО РАН